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HBr/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막에 대한 식각 특성
민수련, 정지원, 이장우, 조한나
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure
정미희, 최호석
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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폴리머 기판 위에 형성된 투명전도성 ZnO:Al 박막의 전기적, 광학적 특성평가|Electrical and optical properties of transparent conductive ZnO:Al thin films on polymeric substrates
신상훈, 김태훈, 김진혁, 김원목, 이전국
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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A Comparative Study on Atomic Layer Etching of Chlorinated-Silicon Surfaces in Argon and Helium Plasmas
정희석, 신치범, 김창구
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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RuO2 MOCVD를 위한 TiN막의 ECR plasma 전처리|ECR plasma pretreatment of the TiN films for RuO2 MOCVD
이종무, 김대교, 엄태종, 홍현석
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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유동층 반응기에서 PEG의 플라즈마 중합을 통한 PS 입자의 표면개질|Surface modification of polystyrene by plasma grafting of PEG in a fluidized bed reactor
송이화,정순화,박성희,김상돈|Lee Hwa Song,Soon Hwa Jung,Soung Hee Park,Sang Done Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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InGaN/GaN 다층양자우물 LED구조의 Cl2/Ar ICP 식각|Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma Etching of InGaN/GaN Multiple Quantum well Light-Emitting Diode Structure
박형조, 최창선, 최락준, 홍주형, 한윤봉|H. J. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, J. H. Hong, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
