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Hot Embossing 공정을 위한 Ni Stamp의 제작과 Patterning에 관한 연구
이용호, 박인수, 정근희, 김장현, 서수정
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Studies on catalytic dimerization of TFE over activated carbon supported catalysts
이용준, 문동주, 허미현, 김홍곤, 안병성, 홍석인
한국공업화학회 2005년 봄 학술대회 |
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Amorphous silicon hard mask 를 이용한 high selectivity pattern 구현|Fabrication of high selectivity patterns using an a-Si hard mask
조민수, 차남구, 박창화, 임현우, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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나노미터 두께를 가지는 Hot Embossing용 점착방지막의 열적 안정성 특성평가|Characteristics of Thermal Stability of Nanometer Thick Fluorocarbon Films for Hot Embossing
김인권, 차남구, 박창화, 박진구
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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C4F8을 이용한 나노미터 두께를 가지는 Hot Embossing 용 마스터의 점착방지막 형성|(Nanometer Thick Fluorocarbon Films for Hot Embossing Master using C4F8)
김인권, 차남구, 이진형, 박진구
한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF6, C4F8, and O2 plasmas for advanced Bosch process
민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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A study on the dimerization of TFE in a Fluidized Bed Reactor
정정조, 문동주, 이용준, 홍성길, 정문조, 안병성
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
