14 |
고집적 메모리 소자 개발을 위한 Hf-silicate 게이트산화막 성장 및 특성 분석 이승재, 용기중 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
13 |
전처리에 따른 HfO2 MOS-Cap의 전기적 특성 평가 양대준, 김주연, 손영준, 김현철, 김영배, 최덕균 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
12 |
Synthesis of Hyperbranched Aliphatic Polyesters by Hafnium(Ⅳ) Salts 최형삼, 인인식, 김상율 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
11 |
Comparative study of ultra-thin HfSixOy and HfSixOy/SiO2 gate dielectrics grown by self-limiting surface reaction between Hf(NC2H5)4 and Si(OC4H9)4 precursor 김재현, 용기중 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
10 |
Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
9 |
MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE 문태형, 최지혁, 명재민 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
8 |
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films 김재현, 용기중 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
7 |
Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착 김석훈, 이시우 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
6 |
Preparation of HfN Thin Film by Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using tetrakis(dimethylamino)hafnium 김은정, 김도형 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
5 |
MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE 문태형, 함문호, 김명석, 윤일구, 명재민 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |