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Synthesis of Adamantane Substituted Poly(methyl methacrylate) for ArF Photoresist and 1D NOE/2D NOESY NMR Studies for Their Monomer Sequence Distribution
차상호, 손해성, 이원기, 이종찬, 김영호, 윤효진, 김명선, 백세경, 유민자, 이재우, 김재현
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
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Synthesis and characterization of novel photopatternable organosilicate polymers
서지연, 심재환, 윤도영
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
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Kinetics of Cationic Photopolymerizations of UV-curable Epoxy-based Negative Photoresists With and Without Silica Nanoparticles
주형태, 조정대, 한승택, 이상섭, 홍진후
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
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POSS-containing Chemically Amplified Photoresists
최재학, 정찬희, 라현실, 임윤묵, 전준표, 강필현, 노영창, 홍성권
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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Synthesis of SiCN Precursor Functionalized Cinnamate and NIL Process Application
김석선, 홍난영, 김동표
한국공업화학회 2005년 봄 학술대회 |
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Relationship between the acid diffusion length and line edge roughness in photoresists
김재현, 김영호, 김태성
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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The Effects of UV Treatment on Photosensitive Organosilicate Films Containing UV Responsive Pendant Group
구형준, 차국헌
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Effect of water-contact on the roughness of patterned photoresist investigated by AFM analysis
안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Characterizations of Poly(oxyethylene) Derivatives and Polysiloxane Derivatives for Extreme-UV Lithography
류현수, 이종찬
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
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Synthesis of Photocurable Modified SiCN Precursor for NIL Process Application
김석선, 홍난영, 김동표
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
