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졸-겔법에 의해 합성한 실리카 졸의 GC 및 GC/MASS 분석|GC and GC/MASS Analysis of Silica Sol Synthesized by the Sol-Gel Method
윤영재, 김선일|Young-Jae, Yun, Sun-Il Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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뒤집힌 단일웨이퍼 반응기에서 클로로실란으로부터 실리콘 화학증착|Si CVD from Chlorosilanes in an Inverted Single-Wafer Reactor
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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PC88A가 함침된 실리카를 이용한 수용액 중의 Zn(II) 이온의 제거|Zn(II) ion Removal from Aqueous Solutions using PC88A Impregnated Silica Powder
박종철, 이종협|Jongchul Park, Jongheop Yi
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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반도체 제조용 실란 PCVD 반응기에서의 입자 오염|The Particle Contamination in Silane PCVD Reactor for Semiconductor Fabrication
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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수소(운반기체)를 사용하여 제조된 Iron silicide 막의 특성|The Characteristics of Iron Silicide Films Prepared by Using Hydrogen(Carrier Gas)
김경수, 전법주, 윤용수, 정일현|Kyung-soo Kim, Bup-ju Jeon, Yong-soo Yoon, Il-hyun Jung
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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FeaSibCcHd 박막의 물리·화학 및 광학적 특성|The Physicochemical and Optical Characteristics of FeaSibCcHd films
김경수, 윤용수, 김정규, 정일현|Kyung-soo Kim, Yong-soo Yoon, Jung-Gyu Kim, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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플라즈마 반응기에서의 입자 전하 분포와 입자 충돌|Particle Charge Distribution and Coagulation in Plasma Reactor
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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질화처리된 실리콘 기판 위에 성장된 β-SiC(111)의 특성연구|The characterization of β-SiC(111) grown on nitrided silicon substrate
김광철, 심현욱, 남기석|K. C. Kim, H. W. Shim, K. S. Nahm
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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디에틸실란/산소로부터 이산화규소 저압화학증착의 속도론적 연구|A Kinetic Study on LPCVD of SiO2 from Dethylsilane/Oxygen
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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폴리카보실란 전구체를 이용한 SiC세라믹 제조|The Processing of SiC Ceramics using Polycarbosilane Precusor
김진구, 이명천|Jin-Goo Kim, Myung-Cheon Lee
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
