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Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor 임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor 김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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The Development of stress controllable ALD_LFW Process and System H Sunwoo, DW Kim, SJ Jung, ID Jo, JH Jung, WJ Yoon, JH Jeon 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Study on massive and eco-friendly strategy for fabricating nanoporous anodic aluminum oxides and their applications 홍영기, 정석환, 김선국, 박동혁 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구 김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Superimposed multi-frequency plasma source 의 plasma diagnostic 및 etch 특성 분석 양경채, 김수강, 신예지, 성다인, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Aqueous-Phase Synthesis with Shape-Controlled Process of ZnO and Application 정지용, 이정희, 김동휘, 이재영, 유태경 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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Photochemical etching study on (-201) and (010) plane β-Ga2O3 single crystal 정선우, 백광현, 장수환 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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Surface reaction modeling for oxygen effect in fluorocarbon plasma etch process 유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호, 박재형 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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3D Feature profile simulation for oxide etching under fluorocarbon/oxygen mixture plasma 박재형, 유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |