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열처리시 Si 기판과 zirconate 박막 사이에 형성되는 다층 구조 분석|Interfacial multi-layer formation between a thin zirconate film and a silicon substrate during thermal treatment 허재성, 최훈상, 백상열, 손창식, 최인훈 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Characterization and Growth of Si nanowires using Au catalyst 김근영, 이승현, 남기석 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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코발트/니켈 복합 실리사이드의 Metal Contact 건식식각 안정성|Dry Etch Stability with Co/Ni Composite Silicide 정영순, 송오성 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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화학기상증착법으로 성장된 silane-based와 DCS-based WSix 박막의 특성평가|Characterization of silane-based and DCS-based WSix thin films deposited by chemical vapor deposition 안은정, 김경원, 정칠성, 김호정, 이순영 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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페리퍼럴 어레이 플립칩의 열 성능 분석|Thermal Performance for Peripheral Array of Flip Chip Technologies 조본구, 이택영, 심연근 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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기계적 합금화로 제조된 FeSi2의 용사소결 및 상변화|Phase Transformations in Thermal Sprayed FeSi2 Prepared by Mechanical Alloying 최문관, 조경원, 김일호, 어순철 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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Abnormal oxidation of cobalt silicide on arsenic implanted N+ active areas 이원규, 조일현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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Arsenic 도즈 량에 따른 코발트 실리사이드 표면위의 이상 산화|Effect of As dose on Abnormal Growth of Oxide on CoSi2 조일현,성낙균,최경근,이종근,이원규|Ihl Hyun Cho,Nak Kyun Sung,Kyoung Keon Choi,Jeong-Gun Lee,Won Gyu Lee 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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수소(운반기체)를 사용하여 제조된 Iron silicide 막의 특성|The Characteristics of Iron Silicide Films Prepared by Using Hydrogen(Carrier Gas) 김경수, 전법주, 윤용수, 정일현|Kyung-soo Kim, Bup-ju Jeon, Yong-soo Yoon, Il-hyun Jung 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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FeaSibCcHd 박막의 물리·화학 및 광학적 특성|The Physicochemical and Optical Characteristics of FeaSibCcHd films 김경수, 윤용수, 김정규, 정일현|Kyung-soo Kim, Yong-soo Yoon, Jung-Gyu Kim, Il-Hyun Jung 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |