| 번호 | 제목 |
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고분자 절연체를 사용한 유기 박막 트랜지스터 강기욱;강희영;송준호;이남헌;이창희 한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Zirconium Silicate 박막의 증착 특성|Deposition Properties of Zirconium Silicate thin Film using ALCVD 이시우, 김원규, 강상우, 이내인, 이종호, 강호규|Shi-Woo Rhee, WonKyu Kim, SangWoo Kang, Nae-In Lee, Jong-Ho Lee, Ho-Kyu Kang 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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ICP type 이온건을 이용한 실리콘 표면의 원자층 식각{{Theories and Applications of Chem. Eng., 2002, Vol. 8, No. 1}}|Layer-by-layer etching of Silicon wafer by ICP type ion source 정세훈, 최지영, 조성민|Sae Hoon Chung, Jee Young Choi, Sungmin Cho 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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N2 및 O2 플라즈마를 이용한 SiO2 2단계 증착 공정|SiO2 two step deposition using N2 or O2 plasma treatment 이청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
