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번호	제목
25	Dry Etching of SiO₂ with C₂F₆ Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
24	평판형 유도결합 BCl₃/CF₄ 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 건식 식각\|Selective Dry Etching of GaAs over AlGaAs in a Planar Inductively Coupled BCl₃/CF₄ Plasma 유승열, 장수욱, 박민영, 이장희, 노호섭, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
23	F-based 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs와 InGaP 반도체의 건식식각에 관한 연구\|A study of Dry etching of GaAs over AlGaAs and InGaP Semiconductor in F-based Plasmas 장수욱, 류현우, 최충기, 문준희, 이장희, 유승열, 임완태, 이제원, 전민현, 조관식, 송한정, 백인규, 권민철, 문성진, 신동현 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
22	C₂F₆유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구\|Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas. 이건교, 이병택 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
21	극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구\|Optimization of mask fabrication process for EUV lithography 김우삼, 김충용, 김태근, 이승윤, 안진호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
20	CeO₂완충층을 이용한 SrBi₂Ta₂O₉ 박막의 식각 정지 특성\|Etch Stop Characteristics of SrBi₂Ta₂O₉ Thin Film by Using CeO₂ Buffer Layer 권영석, 심선일, 김용태, 최인훈 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
19	Dry Etching of SiO₂ with C₂F₆ Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이용희, 이광순 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
18	다양한 슬러리 조건에서의 Ru 박막의 Etching 및 Polishing 거동\|Etching and Polishing Behaviour of Ru Thin Film at Various Slurries Condition 이진형, 이상호, 박진구 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
17	Wet Chemical Etching of FeCrAl alloy for Microreactor Fabrication 라현욱, 옥치원, 한윤봉 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
16	High Density Plasma Etching of Magnetic Multi-layers of NiFe/Co and NiFe/Al-O/Co 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회