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Synthesis of Polynorbornene with Phenylethynyl Groups for the Trilayer Photoresist System
우희제, 오세원, 차국헌
한국고분자학회 2007년 가을 학술대회 |
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New Additive Free High Selective Slurry 기본 연마 특성소개
최용수
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Bosch process에 의한 식각형상 예측을 위한 전산모사
김창규, 이도선, 이원종
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
강봉균, 박진구, 강영재, 조병권, 홍의관, 한상엽, 윤성규, 윤보언, 홍창기
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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밀폐된 Chamber 에서 DHF 세정 후 IPA Vapor를 이용한 매엽식 기판 건조
임정수, 구교욱, 최승주, 성보람찬, 조중근, 박진구
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Effects of Organic Additives in Ceria Slurry on Enhanced Oxide-to-Nitride Removal Selectivity in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Byeong-Seog LEE, Hyun-Goo KANG, Kyung-Woong PARK, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Effects of Surfactant Molecular weight and Concentration in Nano-Ceria Slurry on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing
Hyuk-Yul CHOI, Hyun-Goo KANG, Jun-Seok KIM, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Reduction of Large Particles and Light Point Defects (LPD) by Aging and Selective Sedimentation Process in Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Byong-Seog Lee, Hyun-Goo Kang, Kyung-Woong Park, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Effects of Non-Prestonian Behavior of Ceria Slurry with Anionic Surfactant on Abrasive Concentration and Size in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Hyuk-Yul CHOI, Hyun-Goo KANG, Jun-Seok KIM, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Influence of Bead Size during Ceria Abrasive Milling Process on High Selectivity and Light Point Defect (LPD) Formation after STI-CMP
MOON Seung-Hyun, LEE Keun-Hoo, KIM Jun-Seok, KANG Hyun-Goo, PAIK Ungyu, PARK Jea-Gun
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
