| 번호 | 제목 |
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Negative Photoresists Based on Cholic Acid Methacrylate Copolymerized with Methacrylates with 1,3-Dioxolane and 1,3-Dioxane Rings as Crosslinkers 김진백, 고종성*, 장지현, 이범욱** 한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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SYNTHESIS AND CHARACTERIZATION OF POLYAMIC ACID ESTER PRECURSORS 이병춘, 황윤선, 김지흥*, 원종찬**, 홍영택**, 최길영**, 김영준 한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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Poly(GMA-co-St)을 이용한 감광성 고분자의 합성과 광화학 반응성 고찰|Synthesis of Poly(CNMA-co-St) and Its Photochemical Reaction 박희영, 박성영, 우항수, 박대원|Hee Young Park, Sung Young Park, Hang Soo Woo, Dae Won Park 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Evaluation of a Novel Alicyclic polymer Having 7,7-Dimethyloxepan-2-One Acid Labile Group for 193-nm Photoresists 이재준, 김진백 한국고분자학회 2001년 가을 학술대회 |
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반도체 초미세 가공용 포토레지스트 재료|Photoresists for Microlithography 정찬문|Chan-Moon Chung 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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포지티브형 포토레지스트의 젤층 현상 모델|Gel Layer Development Model of Positive Photoresists 조준연, 최세진, 이승종|Joon Yeon Cho, Se Jin Choi, Seung Jong Lee 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
