| 번호 | 제목 |
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탄산세륨으로부터 CMP 슬러리용 나노세리아 특성 김성돈, 김철주, 윤호성 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
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습식분급기술을 이용한 반도체 공정 실리콘 폐기물의 재활용 정항철, 김건홍, 공만식, 홍현선, 김구성 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 44 |
초임계 이산화탄소 내에서의 염기성 공용매와 초음파를 이용한 HDI 포토레지스트 제거 정재목, 김상재, 임권택 한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
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UV/O3를 이용한 표면개질이 반도체 정밀세정에 미치는 영향 송재동, 백지영, 이명화, 김상범, 김경수 한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
| 42 |
화학적 에칭법을 이용한 연삭 공정을 거친 실리콘 웨이퍼의 파쇄층 제거 및 거칠기 향상 이동헌, 구교헌, 서승국, 안재상, 노재승, 박승식 한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
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ICP 반응기의 입자 코팅 응용 강진이, 김교선, 김동주 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 40 |
단백질 마이크로어레이 제작을 위한 폴리디메틸실록산 미세유체역학 디바이스의 설계 및 제작 김형순, 전세훈, 전원진, 신치범, 최인희, 홍수린, 이수승, 이종협 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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반도체 세정기술의 개발 동향 백귀종 한국공업화학회 2008년 가을 학술대회 |
| 38 |
아크릴레이트 공중합체/올리고머 복합체를 이용한 Glass Sawing용 자외선 경화 점착제의 제조 및 특성 유종민, 김형일 한국공업화학회 2008년 가을 학술대회 |
