화학공학소재연구정보센터(CHERIC) | 연구정보 | 문헌DB

학술대회 목록보기

번호	제목
65	3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
64	A Coaxial Dielectric Barrier Discharge for Fluorocarbon Conversion Nguyen Duc Ba, 이원규 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
63	3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
62	Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
61	Plasma surface reaction modeling coupled with global bulk plasma model in fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
60	Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO₂의 식각특성에 관한 연구 염근영, 전민환, 김회준 한국재료학회 2013년 봄 학술대회
59	Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
58	GPU based 3D feature profile simulation for ultra-high deep etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
57	3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C₄F₆/Ar/O₂ plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
56	GPU based 3D feature profile simulation for plasma etch process 조덕균, 유동훈, 육영근, 장원석, 천푸름, 이세아, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회