| 번호 | 제목 |
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헬리콘 플라즈마로부터 중성입자 흐름의 생성 및 이를 이용한 실리콘의 건식식각|Generation of Neutral Stream From Helicon Plasma and Its Application to Si Dry Etching 정석재, 양호식, 조성민|Seok-Jae. Jeong, Ho-Sik. Yang, Sung Min. Cho 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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Cl2/CO를 이용한 백금박막의 화학적 건식식각 특성|Chemical Dry Etching of Platinum Films using Cl2/CO Gas Mixture 김진홍, 우성일|Jin Hong Kim, Seong Ihl Woo 한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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비휘발성 반도체 메모리 응용을 위한 유도결합 플라즈마에서 Pt/PZT/Pt 박막 커패시터의 건식 식각|Dry Etching of Pt/PZT/Pt Thin Film Capacitors in an Inductively Coupled Plasma (ICP) for Nonvolatile Memory 정지원, 김창정|Chee Won Chung, Chang Jung Kim 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process 권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
