화학공학소재연구정보센터
번호 제목
269 Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices
이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
268 NF3/H2O의 혼합 가스 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 공정 최적화 및 오염물 최소화에 대한 연구
이구봉, 김현태, 김민수, 최인찬, 장성해, 박진구
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
267 9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer
김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
266 Investigation and origin of abnormal small heptagonal-shape etch pits on PVT grown C-face 4H silicon carbide
Myoungho Jeong, Dong Yeob Kim, Duy Khanh Tran, Soon-Ku Hong, Myoung-Chuel Chun, Won-Jae Lee, Tai-Hee Eun, Jeong Yong Lee
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
265 Surface Morphology and Optical Properties of Glass, Manufactured by Hybrid Etching Process
Namhyuk Kim, Jeongil Sohn, Gwangsoo Kim
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
264 Analysis of surface defect in RE:YAG (RE = Nd3+, Er3+, Yb3+) single crystal using chemical polishing and etching
Jang Bo Shim, Young Kuk Lee
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
263 습식 에칭한 MoNi/Cu기반 다층 전극 구조를 적용한 IGZO 박막 트랜지스터
윤대호, 김다은, 조형균
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
262 Improvement of De-chuck Process by applying Two Stage Lifter System in Johnsen-Rahbek Electrostatic Chuck
이호석, 양경채, 박성우, 권승환, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
261 Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model
육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
260 3D Charge-up simulation coupled with realistic plasma surface reaction model in plasma etch process
유혜성, 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성, 임연호
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회