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Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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NF3/H2O의 혼합 가스 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 공정 최적화 및 오염물 최소화에 대한 연구 이구봉, 김현태, 김민수, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Investigation and origin of abnormal small heptagonal-shape etch pits on PVT grown C-face 4H silicon carbide Myoungho Jeong, Dong Yeob Kim, Duy Khanh Tran, Soon-Ku Hong, Myoung-Chuel Chun, Won-Jae Lee, Tai-Hee Eun, Jeong Yong Lee 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Surface Morphology and Optical Properties of Glass, Manufactured by Hybrid Etching Process Namhyuk Kim, Jeongil Sohn, Gwangsoo Kim 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Analysis of surface defect in RE:YAG (RE = Nd3+, Er3+, Yb3+) single crystal using chemical polishing and etching Jang Bo Shim, Young Kuk Lee 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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습식 에칭한 MoNi/Cu기반 다층 전극 구조를 적용한 IGZO 박막 트랜지스터 윤대호, 김다은, 조형균 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Improvement of De-chuck Process by applying Two Stage Lifter System in Johnsen-Rahbek Electrostatic Chuck 이호석, 양경채, 박성우, 권승환, 염근영 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model 육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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3D Charge-up simulation coupled with realistic plasma surface reaction model in plasma etch process 유혜성, 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성, 임연호 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |