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번호	제목
55	3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etching processes 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
54	Reduction of contact hole diameter by alternating etching and deposition using a fluorocarbon plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
53	Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
52	The role of steady-state fluorocarbon film during SiO₂ etching in C₄F₆/Ar/O₂/CH₂F₂ plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
51	Control of the contact hole diameter using inductively coupled fluorocarbon and hydrocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
50	불소계 오일을 함유하는 O/W 액정 에멀젼의 특성과 응용 김영호, 이동원, 정은지, 이상길, 표형배, 이동규 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회
49	Fluorocarbons 함유량에 따른 Perfluorooctanoic Acid Chemical의 발수 성능 문영주, 김태훈, 서기오, 김정열, 김종원, 송병갑 한국고분자학회 2010년 가을 학술대회
48	Effect of CH₂F₂ addition on angular dependence of SiO₂ etching in a C₄F₆/O₂/Ar plasma 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회
47	Angular dependence of SiO₂ etch rates in C₄F₆/Ar/O₂and C₄F₆/Ar/O₂/CH₂F₂ plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
46	SiO₂ Etching Studies in Inductively Coupled C₄F₆ Plasma 채화영, 장원석, 유동훈, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회