| 140 |
HfO2 Deposition on Graphene through Ar+ Ion Cleaning
지유진, 김기석, 김기현, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 139 |
Effect of Al2O3 encapsulation on MoS2 and MoSe2 thin-film transistors
김성열, 이현아, 최웅
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 138 |
Electrical Property Variation of Naturally-Occurring MoS2 Crystals Based on Capacitance-Voltage Measurement
박선영, 김성열, 최유라, 김명준, 신현정, 김지영, 최웅
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 137 |
용액 공정을 이용한 TFT 용 High-k 절연층 제작
한현규, 강태훈, 하철호, 박도휘, 주명양, 전호영, 류시옥
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
| 136 |
Characteristics of Si:ZrO2 deposited by ALD using CP-Zr
이건영, 장우출, 김현정, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 135 |
Interface Properties of Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Thin Films on Ultraviolet/Ozone-Treated Multilayer MoS2
박선영, 최유라, 김명준, 신현정, 김지영, 최웅
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 134 |
Improved Device Properties of Multilayer MoS2 Transistors by Al2O3 Passivation
김성열, 최웅
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 133 |
Charge transport in DPP based ambipolar semiconducting polymers
이지열
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
| 132 |
용액공정을 이용한 TFT 용 High-k 산화알루미늄 절연층 제작
한현규, 강태훈, 박도휘, 하철호, 전호영, 주명양, 류시옥
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
| 131 |
Measuring liquid and vapor composition of mixed precursors for ALD of ZrO2 doped with Al using distillation method
안종기, 심섭, 강고루, 오남근, 김진태, 함성호, 윤주영
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
