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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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TiO2 박막에 의한 휘발성 유기화합물들의 파괴에 관한 연구|The Use of Films on Glass in Gas-Phase Destrution of Volatile Organic Compounds
정상원, 김명수, 변동진, 이중기, 박달근|Sang Won Jung, Myung-soo Kim, Dongjin Byun, Joong Kee Lee, Dalkeun Park
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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콜로이드성 반도체촉매 CdXZn1-XS의 광활성 효율|The Photoactivity Efficiency of Semiconductor Catalyst
최석호, 차민환|Suck-Ho Choi, Min-Whan Cha
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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증류공정 모사용 소프트웨어 개발|Development of Distillation Process Simulation Software
박종기, 조성철, 성재석, 김태환|J.Park, S.Cho, J.S.Sung, T.H.Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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유가식 발효기에서 sucrose를 기질로 사용하는 E.coli W의 고농도 배양|High cell density culture of E.coli W in the fed-batch culture using sucrose as a carbon source
이정석, 이상엽, 박선원|Jeongseok Lee, Sang Yup Lee, Sunwon Park
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
