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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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아몰퍼스실리콘의 결정화에 따른 복합티타늄실리사이드의 물성변화|Property of Composite Titanium Silicide on Amorphous and Crystalline Silicon Sunstrates 김상엽 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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무전해 도금법으로 제조된 Ni-B 확산 방지막의 Cu 확산에 따른 상변태|Phase transformation of electrolessly deposited Ni-B diffusion barrier by Cu diffusion 최재웅, 이완희, 한원규, 황길호, 홍석준, 강성군 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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알루미늄 노트북 컴퓨터 케이스 다이캐스팅 금형 방안|Development of the Diecasting Mold Technology for the Aluminium Notebook Computer Case 강창석, 오익현, 조재익, 이재설, 손현택, 김영찬 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Polymer Thin-Film Transistors Fabricated by Dry Transfer of Polymer Semiconductor 박준형, 이홍희 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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All Inkjetted Thin Film Transistors Using Polypyrrole Wrapped Single Wall Carbon Nanotube as Active Layers 김선희, 정민훈, James Tour, 조규진 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Effects of Surface Energy and Roughness of Gate Dielectrics on OFET Characteristics 박찬언 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Development of High Performance Organic Thin Film Transistor 이상윤 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |