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학술대회 목록보기

번호	제목
23	Etching of SiO₂ in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
22	Angular dependence of SiO₂ etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
21	Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
20	Effect of mixing ratio in SiO₂ etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
19	Etching characteristics of SiO₂ in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas 이유종, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
18	Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO₂ 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
17	Plasma etching of SiO2 using hexafluoroisopropanol 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
16	Plasma etching of SiO₂ using low-GWP etchants 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
15	Dependence of SiO₂ etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C₄F₈ plasma 박창진, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
14	Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO₂ etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회