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고온의 진공상태에서 열화한 반도체 소재 TTIP(Tetraisopropyl orthotitanate) 전구체의 열물성 및 ALD를 사용한 박막의 특성평가 안지혁, 신재수, 안종기, 강고루, 심섭, 김하영, 최은미, 정낙관, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2019년 가을 학술대회 |
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반도체 캐패시터 유전막 증착원료(precursor) TEMAHf(Tetrakis-ethylmethylaminohafnium)의 진공에서의 열물성 및 박막특성평가 안지혁, 김하영, 심섭, 강고루, 안종기, 최은미, 정낙관, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2019년 가을 학술대회 |
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반도체 캐패시터 유전막 증착원료(precursor) Cyclopentadienyl Tris(dimethylamino) Zirconium의 분해와 소자 특성 변화에 관한 연구 최은미, 안지혁, 강고루, 김하영, 정낙관, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2019년 가을 학술대회 |
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미래 나노급 반도체 및 대면적 OLED를 위한 증착소재개발의 한계돌파를 위한 복합물성 측정 장비개발 윤주영, 안종기, 심섭, 강고루, 김하영, 김진태, 정낙관, 허훈, 허규용 한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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Study on Ar plasma, O2 plasma and O2 thermal treatment on titanium surface for biomedical applications 맹선정, 송제범, 강고루, 정낙관, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2017년 가을 학술대회 |
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Enhancement in efficiency of blue organic light-emitting diode by incorporating metal nanoparticles based on localized surface plasmon 남민우, 정낙관, 심섭, 이보금, 강고루, 표성규, 윤주영 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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The effect of HfO2 Films using Atomic Layer Deposition in accordance with thermal decomposition temperature of Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium [TEMAHf] 오남근, 안종기, 강고루, 김소연, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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QMS 신호의 FFT와 Histogram 분석을 이용한 Al2O3 ALD 공정진단 강고루, 윤주영, 안종기, 오남근, 남민우 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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Measuring liquid and vapor composition of mixed precursors for ALD of ZrO2 doped with Al using distillation method 안종기, 심섭, 강고루, 오남근, 김진태, 함성호, 윤주영 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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The effect of surface treatment on porous TiO2 used in DSSC using atomic layer deposition techniques of various conditions 강고루, 김태성, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2014년 가을 학술대회 |