| 번호 | 제목 |
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| 6 |
NixCo1-xFe2O4/BaTiO3/NixCo1-xFe2O4후막의 자성체층 두께 변화에 따른 전자기적 특성 변화 엄승준, 이종욱, 심인보 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
| 5 |
그래핀과 PZT를 이용한 1T 구조의 강유전체 메모리 소자 이원호, 안종현 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
| 4 |
P(VDF-TrFE)를 이용한 비휘발성 강유전체 박막 트랜지스터 정순원, 구재본, 양용석, 백강준, 유인규 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
| 3 |
FeRAM 소자에서 Al 배선 특성에 미치는 공정 영향 평가|Effects of Process Conditions on Al Metallization Properties in FeRAM Device 조경원, 권순용, 염승진, 김남경, 최은석, 선호정, 홍태환, 이영근, 최시경 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 2 |
강유전체 메모리 소자를 위한 Ir 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Iridium Thin Film for Ferroelectric Random Access Memory 임동규, 정지원|Dongkyu Lim, Chee Won Chung 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
| 1 |
비휘발성 반도체 메모리 응용을 위한 유도결합 플라즈마에서 Pt/PZT/Pt 박막 커패시터의 건식 식각|Dry Etching of Pt/PZT/Pt Thin Film Capacitors in an Inductively Coupled Plasma (ICP) for Nonvolatile Memory 정지원, 김창정|Chee Won Chung, Chang Jung Kim 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
