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유기 포토디텍터에서 전자 차단 층으로 사용된 고유전 물질인 HfOx박막의 터널링 효과 연구
김우성, 오세용
한국공업화학회 2019년 가을 학술대회 |
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PS/Cu와 PS/Ag 복합입자 제조와 박막화를 통한 고유전층 형성 연구
이선영, 최다연, 정현민
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
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Termal Property of TEMAZ for Atomic layer deposition
안종기, 차덕준, 김진태, 윤주영
한국공업화학회 2012년 가을 학술대회 |
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리모트 플라즈마 원자층 증착 기술 및 high-k 응용
Hyeongtag Jeon, Hyungchul Kim
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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전처리에 따른 HfO2 MOS-Cap의 전기적 특성 평가
양대준, 김주연, 손영준, 김현철, 김영배, 최덕균
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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ALD로 성장시킨 Ta2O5 박막의 열처리에 따른 특성변화(Effect of post-annealing on properties of Ta2O5 films grown by ALD)
이재웅, 함문호, 김형준, 명재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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RF magnetron sputter로 성장시킨 고유전 TiO2:SiO2 박막의 특성(Properties of high-k TiO2:SiO2 films grown by RF magnetron sputter)
김성연, 오병윤, 함문호, 명재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE
문태형, 최지혁, 명재민
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Hf(O-iPr)4를 이용하여 원자층증착한 HfO2 박막의 특성분석
김정찬, 허정식, 조용석, 문상흡
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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고유전물질의 게이트 전극 활용을 위한 TaN, TaSiN의 일함수 및 열안정성|Workfunction and thermal stability of TaN, TaSiN for gate electrodes of high-k dielectrics
김광수, 김영배, 최덕균
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
