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화학기상증착법에 의해 제조된 알루미늄도핑된 산화아연기반의 투명전도산화막의 전기전도도 개선을 위한 후처리공정에 관한 연구
김정삼, 양건우, 권성구
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
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MOCVD를 사용하여 제조된 산화아연박막의 전기적. 광학적 특성에 미치는 Al과 Ga 영향에 관한 연구
권성구, 백초롱, 임화인
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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VHF ICP 물플라즈마를 이용한 수소생성에서 공정변수의 영향
권성구, 김대운, 주정훈, 추원일
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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UV/O2 가스상 세정을 이용한 실리콘 웨이퍼상의 PEG 반응기구의 관찰
권성구, 김도현
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Low power EWOD(electrowetting on dielectric) chip for lab-on-a-chip system application
홍석환, 권성구, 노태문, 김도현
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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전자소자기술을 위한 in-situ 저압 UV-O2/O3 스트리핑 공정변수에 대한 연구|Process Variables of in-situ Low Pressure UV-O2/O3 Stripping for Electronic Device Technology
선민철, 권성구, 김도현|Min Cul Sun, Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
