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질소 이온주입한 STS 316L 스테인리스강에서 잔류응력과 집합조직, 상변화가 내식성에 미치는 영향
전신희, 김대일, 유용주, 공영민
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas
이형무, 김창구
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Polymer Films deposited in PFC- and UFC-containing Plasmas during the Bosch Process
권혁규, 이형무, 김창구
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Environment-Friendly Plasma Etching of High Aspect Ratio Deep Si
이형무, 박창한, 김창구
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Effects of the ion mass and the ion incident angle on etch rates in atomic scale etching
박창한, 이형무, 윤형진, 김태호, 신치범, 김창구
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas
이형무, 박창한, 김창구
한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
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고밀도 CHF3 플라즈마 식각에서 바이어스 전압과 이온의 입사각에 따른 photoresist의 식각 속도와 SiO2에 대한 식각 선택도의 변화
강세구, 민재호, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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아크 이온플레이팅으로 증착한 TiN 코팅의 잔류응력|Residual Stress in TiN films Deposited by Arc Ion Plating
연제영, 장경욱, 손윤호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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수소 첨가에 따른 육방정 질화 붕소 박막의 표면 형상과 잔류응력 감소에 관한 연구|Effect of hydrogen on surface morphology and residual stress of hexagonal boron nitride thin films
이은옥, 박종극, 정증현, 임대순, 백영준
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
