| 번호 | 제목 |
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Interpretation of Line Edge Roughness in Extreme-Ultraviolet (EUV) Lithography using Molecular Simulations 박주혜, 이성규, Yannick Vesters, 김명웅, Danilo De Simone, 오혜근, 허수미 한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach 박주혜, 이성규, 김명웅, Yannick Vesters, 오혜근, Danilo De Simone, 허수미 한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
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EUV 리소그래피 공정에서 미세 오염입자에 의한 영향 및 오염입자 제거를 위한 세정공정 연구 박진구, 오혜근, 김인선, 김민수, 김현태, 이준, 최인찬, 장성해 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
