| 17 |
POSS hybrid resists containing diazoketo groups for UV curing nanoimprint lithography (UV-NIL)
신승민, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 16 |
Study on hybrid nanoimprint resists containing diazoketo groups
신승민, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
| 15 |
Fabrication of Dual Functionalized Surfaces on a Patterned SiO2/Au Template via Si-containing Block Copolymer
최수영, 우승아, 박창홍, 김진백
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
| 14 |
UV-curing nanoimprint resist material containing diazoketo groups
신승민, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 13 |
An organic–inorganic hybrid material containing polyhedral oligomeric silsesquioxane based on a non-chemically amplified resist system
우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 12 |
Dual Patterned Self-assembled Monolayer via Si-containing Block Copolymer Lithography on Gold Substrate and Their Applications
우승아, 최수영, 구세진, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 11 |
Eco-Friendly Photoresists for Thin Film Transistors and Color Filters
하재욱, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 10 |
A Novel Top Surface Imaging Approach Utilizing Selective Chemisorption of Diphenyl Siloxane Derivatives
김현희, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 9 |
Dually Patterned Self-assembled Monolayer via Silicon-containing Block Copolymer Lithography on Gold Substrate and Their Applications
우승아, 최수영, 구세진, 김진백
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 8 |
Top surface imaging process by selective chemisorption of diphenyl siloxane derivatives.
김현희, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
