화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 고주파 (162 MHz) 분할전극 플라즈마 소스를 이용한 Silicon nitride (SiNx) 박막의 PEALD 공정에 관한 연구
변지영, 지유진, 김기현, 김기석, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
1 건식/습식 연속공정을 이용하여 성막된 ZnO의 결정성과 표면특성
정하나, 김도형
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회