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원자층 화학 증착 공정을 이용한 TiCxNy 박막의 공정 조건과 조성 변화에 따른 박막 특성 연구
조기희, 이시우
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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Atomic layer chemical vapor deposition for silicon nano devices
이시우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of TaC gate electrode with TBTDET
조기희, 이시우
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 7 |
원자층 기상증착공정(Atomic Vapor Deposition)을 이용한 TaCN 박막의 특성 평가
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Dichlorobis[bis(trimethylamido)]hafnium과 물을 이용한 Hafnium Silicate의 단원자층 화학증착
남원희, 강상우, 이시우, 이정현, Steven. M. George
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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원자층 화학증착법으로 제조된 WC(Tungsten Carbide)막의 증착 특성
김영재, 박준형, 김도형
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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원자층 증착 공정에 관련한 Si(100)위에서 알코올의 표면화학연구|surface chemistry of alcohols on Si(100) for ALD process
김재현, 김관수, 용기중|Jaehyun Kim, Kwansoo Kim, Kijung Yong
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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원자층 나노박막 증착을 위한 표면화학 연구|Surface chemistry study for atomic layer chemical vapor deposition
용기중|Kijung Yong
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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원자층 화학증착법을 이용한 나노구조 형성|Formation of nano structure using atomic layer chemical vapor deposition
이시우, 남원희, 김원규|Shi-Woo Rhee, Won-Hee Nam, Won-Kyu Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
