화학공학소재연구정보센터
번호 제목
21 Nano-piezoelectric Head Spray System 기반의 미세 반도체 세정 공정에 탑재 가능한 15μm 이하 내경의 미세 멀티홀 노즐 시스템 개발
김경학, 박범준
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회
20 식물성 오일 유래 친환경 실리콘 웨이퍼 세정제의 합성 및 물성 평가
김도원, 조서연, 이수민, 이주연, 손종석, 임종주, 이명진
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회
19 유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발
권태영, Y. Nagendra Prasad, R. Prasanna Venkatesh, 박진구
한국재료학회 2011년 봄 학술대회
18 반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향   
김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
17 Modification of Ozonated Water Cleaning System for Photoresist Removal
이종혁, 임상우
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
16 Adsorption separation of carbon dioxide, ethanol and monoethanolamine gas by activated carbon
김병헌, 이광순, 이세찬
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
15 고압 이산화탄소와 반도체세정혼합물의 운점
권세호, 임종성, 한갑수, 유기풍, 원종우
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
14 Supercritical CO2 Resist Removal (SCORR) of Pattern Wafers
유기풍
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
13 Solubility of carbon dioxide in ionic liquids 1-Butyl-1-methylpyrrolidinium trifluoromethanesulfonate and Tihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide
윤지은, 이광순
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
12 초임계 이산화탄소, 반도체세정제, 계면활성제 혼합물의 Cloud Point
권세호, 임종성, 유기풍, 한갑수
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회