| 번호 | 제목 |
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대구경 웨이퍼 공정을 위한 이중 주파수를 이용한 유도 결합 플라즈마 소스의 특성 연구 서진석, 김기석, 김태형, anurag mishra, 김경남, 염근영 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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NF3/Ar ICP를 이용한 SiO2/PR의 선택적 식각|Selective Dry Etching of SiO2 over Photo-resist using NF3/Ar Inductively Coupled Plasma 박형조, 한윤봉|Hyung Jo Park, Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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초고 집적회로에서 층간 절연막으로 사용하기 위한 저 유전체 박막물질 증착|Deposition of Low Dielectric Constant Material for Intermetal Dielectric Applications in ULSI Circuits 김동선|Dong S. Kim 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
