| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 1 |
C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3 이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3 이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |