화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 FOUP에서 Al cleaning에 적용가능한 HPM 농도 및 DIW rinse 양에 대한 연구(optimal study on the HPM concentration and DIW rinse of Al cleaning in FOUP)
유철휘, 황갑진, 강성구, 이솔, 김명기, 성덕형, 장성만
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회
1 반도체 웨이퍼 메탈오염방지를 위한 보관용기 오염 제거
장성만, 성덕형, 김명기, 이솔, 강성구, 황갑진, 유철휘
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회