| 번호 | 제목 |
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EUV 마스크 표면 재료 및 carbon 오염물 간의 상호작용 및 carbon 오염물 제거를 위한 세정액 연구 송희진, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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NF3/H2O의 혼합 가스 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 공정 최적화 및 오염물 최소화에 대한 연구 이구봉, 김현태, 김민수, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 4 |
실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구 이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Si 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 금속 오염물 및 오염 입자 제거를 위한 세정공정 연구 송희진, 박건호, 장성해, 김민수, 박진구 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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EUV 리소그래피 공정에서 미세 오염입자에 의한 영향 및 오염입자 제거를 위한 세정공정 연구 박진구, 오혜근, 김인선, 김민수, 김현태, 이준, 최인찬, 장성해 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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NF3/H2O 플라즈마 가스를 이용한 산화막 식각 공정에서의 반응 기구 연구 이동환, 박진구, 장성해, 최인찬, 이준, 김민수, 김현태 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
