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Ultralow-dielectric-constant Amorphous Boron Nitride
신현석
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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반도체 후공정에서 세정공정 및 세정액 특성 평가
고천광, 이원규
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회 |
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Ne+ 이온을 이용한 polyimide 필름 표면 특성 분석
신진욱, 전준표, 강필현
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
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폴리이미드수지의 연구 개발 현황
최길영
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
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분자 공극을 함유한 저유전성 bis(4-aminophenyl)-1-adamantyl phosphine oxide로 합성된 폴리이미드의 물성 및 특성 분석
유동근, 윤태호, 최정훈, 김영준, 김덕준
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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VTMS 전구체를 이용한 직접 플라즈마 CVD 저유전체 박막의 제조 및 평가|Low-k SiCOH films by direct plasma CVD with VTMS(vinyltrimethylsilane)
곽상기,이시우|Sang Ki Kwak,Shi Woo Rhee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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저유전체 SiCFO 박막의 PECVD 제조 및 특성|Properties of Low-k SiCFO Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
김태희, 한윤봉|Tae-Hee Kim, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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나노기공을 함유한 poly(organosilsesquioxane)의 제조 및 특성분석|Synthesis of Nanoporous Poly(organosilsesquioxane)
민성규, 박재만, 송기태, 진문영, 이진규, 차국헌, 윤도영, 이희우|Sung-Kyu Min, Jae-Mann Park, Kitae Song, Moon Young Jin, Jin-Kyu Lee, Kookheon Char, Do Yeung Yoon, Hee-Woo Rhee
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저유전체 박막의 제조 및 특성|Plasma enhanced chemical vapor deposition and characterization of low-k dielectric thin film
김태희,홍주형,한윤봉|Tae-Hee Kim,Joo-Hyung Hong,Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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저 유전체로서의 microphase-separated된 공중합체|Microphase-separated copolymer as a dielectric materials
이상헌, 배영찬|Sang Hun Lee, Young Chan Bae
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
