화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 플라즈마를 이용한 GaAs 반응성 이온 식각 (Reactive Ion Etching of GaAs in BCl3  plasma) 
이성현, 노호섭, 최경훈, 박주홍, 조관식, 이제원
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
1 축전 결합형 O2 플라즈마를 이용한 아크릴과 폴리카보네이트의 식각 공정 비교 (Comparison of Capacitively Coupled O2 Plasma Etching of PMMA and Polycabonate at Different Process Regime)
박주홍, 이성현, 노호섭, 최경훈, 조관식, 이제원
한국재료학회 2009년 봄 학술대회