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Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties
최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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석유화학시설의 평저형 저장탱크 하부부식 검사기술 개발
이동훈, 정희준, 조영도, 김진준, 이일재, 최학영
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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The study of the electric characteristics of a-IGZO TFT with TiN/Cu electrode depending on the thickness of TiN as an adhesion layer
이상헌, 박주현, 최학영, 신석윤, 함기열, 김지훈, 전형탁
한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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Improvement in the bias stability of IGZO thin film transistors using Al2O3 buffer layer growth on Si3N4 dielectric layer
박주현, 방석환, 이승준, 고영빈, 최학영, 신석윤, 김지훈, 함기열, 이상헌, 전형탁
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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The study on H2 plasma treatment effect in IGZO thin film transistor
김지훈, 방석환, 이승준, 박주현, 고영빈, 최학영, 신석윤, 함기열, 이상헌, 전형탁
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Adhesion properties of ruthenium thin films deposited by remote plasma atomic layer deposition
박태용, 최동진, 최학영, 전형탁
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
