번호 | 제목 |
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Photo-curable zwitterionic ligand capped perovskite nanocrystals for fine, bright patterning 노성훈, 양한솔, 정재민, 오종규, 장재영 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
31 |
수용성 포토레지스트 합성 및 포토리소그래피 패턴 형성 유정우, 이수빈, 최재학 한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
30 |
Coumarin 기를 포함하는 수용성 고분자 합성 및 광가교 반응 연구 이수빈, 유정우, 최재학 한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
29 |
산소 윤활층을 이용한 비등방성 미세 입자 제조 봉기완 한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
28 |
재기록 가능한 아조벤젠 기반 홀로그램 소재 김진수 한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
27 |
Ru-capped EUV photomask 세정에 대한 DIO3 및 UVO3 비교 손창진, 임상우 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
26 |
반도체용 포토마스크 보호를 위한 펠리클 프레임 제조 시 발생되는 오염물 제거를 위한 세정 공정 개발 김현태, 박진구, 강봉균, 김민수, 조윤식, 문정일 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
25 |
Lithography 공정에서 사용되는 Blank Mask 제작을 위한 Quartz 기판 연마용 Ceria 입자분산평가 서영길, 김혁민, Xiong Hailin, 문덕주, 박진구 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
24 |
듀얼 디퓨저 리소그래피를 이용한 3차원 마이크로 구조의 제작 한동호, Hassan Hafeez, 류헌열, 조시형, 박진구 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
23 |
Film and Pattern Formation of Aminopyridine Containing Polydiacetylene 심지나, 김종만 한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |