화학공학소재연구정보센터
번호 제목
32 Photo-curable zwitterionic ligand capped perovskite nanocrystals for fine, bright patterning
노성훈, 양한솔, 정재민, 오종규, 장재영
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회
31 수용성 포토레지스트 합성 및 포토리소그래피 패턴 형성
유정우, 이수빈, 최재학
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회
30 Coumarin 기를 포함하는 수용성 고분자 합성 및 광가교 반응 연구
이수빈, 유정우, 최재학
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회
29 산소 윤활층을 이용한 비등방성 미세 입자 제조
봉기완
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
28 재기록 가능한 아조벤젠 기반 홀로그램 소재
김진수
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회
27 Ru-capped EUV photomask 세정에 대한 DIO3 및 UVO3 비교
손창진, 임상우
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
26 반도체용 포토마스크 보호를 위한 펠리클 프레임 제조 시 발생되는 오염물 제거를 위한 세정 공정 개발
김현태, 박진구, 강봉균, 김민수, 조윤식, 문정일
한국재료학회 2013년 가을 학술대회
25 Lithography 공정에서 사용되는 Blank Mask 제작을 위한 Quartz 기판 연마용 Ceria 입자분산평가
서영길, 김혁민, Xiong Hailin, 문덕주, 박진구
한국재료학회 2013년 가을 학술대회
24 듀얼 디퓨저 리소그래피를 이용한 3차원 마이크로 구조의 제작
한동호, Hassan Hafeez, 류헌열, 조시형, 박진구
한국재료학회 2013년 봄 학술대회
23 Film and Pattern Formation of Aminopyridine Containing Polydiacetylene
심지나, 김종만
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회