번호 | 제목 |
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군집 분석 기법을 통한 플라즈마 식각 공정의 식각 종말점 검출 이성현, 채희엽, 최호준, 김재현 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
61 |
Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
60 |
Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
59 |
Etching characteristics of SiO2 in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas 이유종, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
58 |
Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
57 |
Enhancement-Mode Gallium Nitride Heterojunction Field-Effect Transistors 차호영, 장원호, 김정진 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
56 |
Ga2O3 nano-flake의 제작 및 응용 김만경, 김유경, 장수환 한국공업화학회 2020년 봄 학술대회 |
55 |
C7F14 플라즈마를 이용한 SiO2, Si3N4의 식각 연구 탁현우, 성다인, 양경채, 김수강, 김동우, 염근영 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
54 |
Plasma etching for the fabrication of slanted Si rods as low reflection surfaces 김준현, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
53 |
ICP 식각법에 의해 손상된 GaN의 화학적 용액 처리법을 이용한 복구 실험 김보명, 이영웅, 박진호 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |