화학공학소재연구정보센터
번호 제목
62 군집 분석 기법을 통한 플라즈마 식각 공정의 식각 종말점 검출
이성현, 채희엽, 최호준, 김재현
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
61 Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
60 Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas
이유종, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
59 Etching characteristics of SiO2 in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas
이유종, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
58 Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
57 Enhancement-Mode Gallium Nitride Heterojunction Field-Effect Transistors
차호영, 장원호, 김정진
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
56 Ga2O3 nano-flake의 제작 및 응용
김만경, 김유경, 장수환
한국공업화학회 2020년 봄 학술대회
55 C7F14 플라즈마를 이용한 SiO2, Si3N4의 식각 연구
탁현우, 성다인, 양경채, 김수강, 김동우, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
54 Plasma etching for the fabrication of slanted Si rods as low reflection surfaces
김준현, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
53 ICP 식각법에 의해 손상된 GaN의 화학적 용액 처리법을 이용한 복구 실험
김보명, 이영웅, 박진호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회