화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 FT-IR studies of the aluminum chemical vapor depositionusing aluminum Borohydride trimethylamine (ABHTMA)
강상우, 윤주영, 신용현
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
2 In-situ FT-IR diagnostics for monitoring of the aluminum chemical vapor deposition
박영재, 양재영, 강상우, 윤주영, 성대진, 신용현
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
1 TMEDAA를 이용한 알루미늄 박막의 유기금속 화학증착에 관한 연구|Study on the Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) of Aluminum Thin Film from Tetramethylethylenediamine Alane (TMEDAA)
김대환, 박만영, 이시우|Dae-Hwan Kim, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회