| 번호 | 제목 |
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전자용 케미컬 기술개발 동향 김진웅 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process 황재성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
