| 번호 | 제목 |
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| 3 |
Synthesis of branched polymer with acid-degradative crosslinkers as ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization 이애리, 손해성, 김동균, 이종찬 한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
| 2 |
Materials of Spin-on Hardmask for Sub-70nm Device Fabrication 이정훈, 이창호, 김영호, 윤호규 한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
| 1 |
ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
