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Layer-by-Layer Etching of Copper Thin Films Using Acetylacetone/O2/Ar Gas Mixture 김승현, 임은택, 박성용, 정지원 한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
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Halogen-free Atomic Layer Etching of Metal Oxides 이정빈, 노재홍, 박태주, 김우희 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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Assessment of group-13 compounds toward thermal etching of AlF3: a density functional theory study 김미소, 이성민, 최요한, 엄효빈, 송봉근 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Quasi-Atomic Layer Etching of SiO2 Layers for Surface Cleaning of Nanoscale Patterns with Fluorocarbons having Low Global Warming Potential 김용재, 채희엽, 조예근, 이상인 한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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Realistic plasma surface reaction model for cyclic fluorocarbon atomic layer etching process 유혜성, 임연호, 육영근, 유동훈 한국화학공학회 2017년 가을 학술대회 |
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3D Feature Profile Simulation of Cyclic Fluorocarbon Atomic Layer Etching Process 유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Etching of MoS2 Applicable to Next Generation Nano-device 지유진, 염근영, 김기석, 김기현 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Layer by Layer Control of MoS2 Film through Atomic Layer Etching System 임태철, 전민환, 염근영 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
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Atomic scale etching of poly-Si in inductively coupled Ar and He plasmas 김태호, 민재호, 문상흡, 윤형진, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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A Comparative Study on Atomic Layer Etching of Chlorinated-Silicon Surfaces in Argon and Helium Plasmas 정희석, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |