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Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Novel Discoveries on sH hydrate forming F-gases 김은애, 최준환, 서용원 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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C7F14 플라즈마를 이용한 SiO2, Si3N4의 식각 연구 탁현우, 성다인, 양경채, 김수강, 김동우, 염근영 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구 김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Discovery of a gaseous sH hydrate former through phase equilibria and structure identification 김은애, 서용원 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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Dependence of SiO2 etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C4F8 plasma 박창진, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |