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ESG Initiatives in Semiconductor Materials: Next Gen. Etching Gas with Low Global Warming Potential
김오현
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Thermodynamic and structural characteristics of the N2 + CHF3 and N2 + C2F6 gas hydrates for hydrate-based F-gas separation
서용원, 진영근, 김은애
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
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Structure Identification and Thermodynamic Stability of Mixed CHF3 + N2 Gas Hydrates
김은애, 고 결, 서용원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications
최지현, 아드리안, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Polyimide 중공사를 이용한 CMS 제조 및 기체투과특성
김세종, 고형철, 하성용
한국공업화학회 2013년 봄 학술대회 |
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Polyimide 중공사를 이용한 CMS 제조 및 기체투과특성
김세종, 고형철, 하성용
한국공업화학회 2013년 봄 학술대회 |
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열플라즈마 공정에 의한 반도체 유해가스 처리 및 금속 나노분말 제조
최경수, 박동화
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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C2F6/Ar 가스를 이용한 TiO2 박막의 유도결합 플라즈마 반응성 이온 식각
조한나, 민수련, 리유에롱, 정지원
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 and BCl3-based gas Plasmas
강동진, 이건교, 이병택
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
