| 번호 | 제목 |
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C2F6/Ar 가스를 이용한 TiO2 박막의 유도결합 플라즈마 반응성 이온 식각 조한나, 민수련, 리유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이용희, 이광순 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
