| 12 |
Synthesis of of Fluorinated Alternating Copolymer and Photolithographic Characterization under High energy Electron-beam and EUV radiation
구예진, 이진균
한국고분자학회 2020년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Photolithographic Characterization of Novel Phenolic Molecular Resist with High Glass Transition Temperature
문정석, 오현택, 이진균
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
| 10 |
An organic–inorganic hybrid material containing polyhedral oligomeric silsesquioxane based on a non-chemically amplified resist system
우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
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A Novel Top Surface Imaging Approach Utilizing Selective Chemisorption of Diphenyl Siloxane Derivatives
김현희, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 8 |
Top surface imaging process by selective chemisorption of diphenyl siloxane derivatives.
김현희, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 7 |
Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes
김진백
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 6 |
Simple Top Surface Imaging System by Blending Photoresists and Silicon-containing materials
우승아, 김진백
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
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Top Surface Imaging by Selective Adsorption of Polydimethylsiloxane
윤슬기, 김진백
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
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Photolithographic Cell Patterning for Tissue Engineering Application
최재학, 정찬희, 김동기, Ramakrishnan Ganesan
한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
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High Performance Resists for Sub-100 nm EUV Lithographic Patterning
최재학, 노영창, 홍성권
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
