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번호	제목
15	Film analysis on Functional Group of Self-Assembled Monolayer (SAM) for the application on Cu diffusion barrier Minkyu Lee, Seungmin Lee, Taeyoon Lee 한국재료학회 2021년 봄 학술대회
14	Replacement of Copper Diffusion Barrier using Chemical Analysis of Self-Assembled Monolayer Minkyu Lee, Taeyoon Lee 한국재료학회 2020년 봄 학술대회
13	Study of Functional Group of Self-Assembled Monolayer and its Chemical Analysis Minkyu Lee, Taeyoon Lee 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
12	Oxide semiconductor thin film transistor using self-assembled molecular as gate insulator 이승민, 이민규, 이태윤 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
11	Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor 김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
10	Characterization of Cu-Mn/Ta layer as Cu diffusion barrier on low-k dielectric 강민수, 박재형, 한동석, 정연재, 박종완 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
9	Investigation about TaN diffusion barrier properties of Cu gate TFT with Al₂O₃ and HfO₂ gate insulator 김동현, 김형준, 우황제, 남태욱, 정한얼 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
8	Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy 박재형, 한동석, 강민수, 박종완 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
7	Characteristics of Organic Barrier layer using Layer-by-Layer deposition method 정대균, 이치영, 이재갑 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
6	Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy 한국재료학회 2014년 봄 학술대회