| 번호 | 제목 |
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Ru-capped EUV photomask 세정에 대한 DIO3 및 UVO3 비교 손창진, 임상우 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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EUV Mask의 내구성 향상을 위한 cleaning chemistry별 표면 특성 연구 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 3 |
포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 DIO3 세정 공정 조건 양자현, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
| 2 |
MIR FT-IR을 이용한 Si표면의 파티클 정량화 방법 양자현, 임경택, 정주영, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 계면활성제를 이용한 세정 효과 양자현, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
