| 9 |
Balancing the Concentrations of Redox Species to Improve Electrochemiluminescence by Tailoring the Symmetry of the AC voltage
오환, 문홍철
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
| 8 |
Control of Cu Film Stress by Pulsed DC Magnetron Sputtering
이수정, 김도한, 김태형, 김수강, 이원오, 김경남, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 7 |
HARC 식각을 위한 pulsed triple frequency 효과에 대한 연구
양경채, 김수강, 이호석, 성다인, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 6 |
Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2
이호석, 양경채, 박성우, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 5 |
Effect of Bias Frequency on the Etching of Magnetic Tunnel junction Materials
Geun Young Yeom, Kyong Nam Kim, Kyung Chae Yang, Sung Woo Park
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
| 4 |
Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
| 3 |
이중주파수를 사용하는 펄스 플라즈마의 특성 분석
서진석, 김경남, 김태형, 염근영
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
| 2 |
Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO2의 식각특성에 관한 연구
염근영, 전민환, 김회준
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
| 1 |
Effect of individual and mixed gases on the field emission of carbon nanotubes
이한성, 장은수, 곽정춘, 최영철, 이내성
한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
